1、【题目】静止龋出现的条件是

选项：

A.机体抵抗力增加

B.龋损处致龋的环境消失

C.口腔内致龋菌数量减少

D.口腔唾液流量增加

E.摄糖总量减少

答案：

B

解析：

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1、【题目】预备嵌件缘斜面的目的中不包括

选项：

A.增加嵌体的边缘密合性

B.增强嵌体的耐磨擦性

C.减少微漏

D.预防釉质折断

E.增加嵌体与边缘的封闭作用

答案：

B

解析：

暂无解析

1、【题目】静止龋出现的条件是

选项：

A.机体抵抗力增加

B.龋损处致龋的环境消失

C.口腔内致龋菌数量减少

D.口腔唾液流量增加

E.摄糖总量减少

答案：

B

解析：

暂无解析

1、【题目】防止细菌污染培养基宜采用

选项：

A.消毒

B.灭菌

C.防腐

D.无菌操作

E..灭菌与无菌操作

答案：

E

解析：

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1、【题目】总义齿修复中，作用于唾液与基托之间的力，应称之为

选项：

A.粘固力

B.吸引力

C.附着力

D.粘附力

E.粘着力

答案：

C

解析：

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1、【题目】可摘局部义齿上颌后堤区后缘应在

选项：

A.前颤动线以前

B.腭小凹之前

C.软硬腭交界处稍后的软腭上

D.前后颤动线以前

E.后颤动线以前

答案：

C

解析：

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