（2009•泰州模拟）高纯超净特种气体主要用于制造半导体器件、化合物半导体、激光器、光导纤维、太阳能电池等．超纯硅化氢制备方法如下：（已知：常温下SiH4难溶于水，与稀硫酸不反应，乙醚沸点34.6℃）

①由下列两种方法制得SiH4

方法一：Mg2Si+4NH4Cl液氨

SiH4+2MgCl2+4NH3

方法二：LiAlH4+SiCl4C2H5OC2H5

SiH4+AlCl3+LiCl

②除去SiH4中混有的杂质气体

请回答下列问题：

（1）对方法一的理解，有同学认为是NH4+水解产生H+，Mg2Si与H+反应生成SiH4，你认为该观点是否正确？并简述理由______．

（2）将方法二的固体产物溶于水，只有一种物质能促进水的电离，则NaOH、Mg（OH）2、LiOH碱性由强到弱的顺序为______．

（3）两种方法制得的SiH4中均含有少量杂质，有同学提出用下列方法除去SiH4中的杂质，其中肯定不可行是______．

a．用稀硫酸洗气 b．高温使杂质分解 c．低温分馏

（4）甲、乙、丙三同学在讨论SiH4制备方法的化学反应类型时发表如下观点，你认为正确的是______．

a．甲同学认为两个反应均为氧化还原反应

b．乙同学认为两个反应中只有一个属于氧化还原反应

c．丙同学认为要判断是否属于氧化还原反应，还需要知道SiH4中各元素具体的化合价．