PN结（PNjunction） 　　采用不同的掺杂工艺,通过扩散作用,将P型半导体与N型半导体制作在同一块半导体（通常是硅或锗）基片上,在它们的交界面就形成空间电荷区称PN结.PN结具有单向导电性.P是positive的缩写,N是negative的缩写,表明正荷子与负荷子起作用的特点.一块单晶半导体中,一部分掺有受主杂质是P型半导体,另一部分掺有施主杂质是N型半导体时,P型半导体和N型半导体的交界面附近的过渡区称为PN结.PN结有同质结和异质结两种.用同一种半导体材料制成的PN结叫同质结,由禁带宽度不同的两种半导体材料制成的PN结叫异质结.制造PN结的方法有合金法、扩散法、离子注入法和外延生长法等.制造异质结通常采用外延生长法.P型半导体（P指positive,带正电的）：由单晶硅通过特殊工艺掺入少量的三价元素组成,会在半导体内部形成带正电的空穴；N型半导体（N指negative,带负电的）：由单晶硅通过特殊工艺掺入少量的五价元素组成,会在半导体内部形成带负电的自由电子.在P型半导体中有许多带正电荷的空穴和带负电荷的电离杂质.在电场的作用下,空穴是可以移动的,而电离杂质（离子）是固定不动的.N型半导体中有许多可动的负电子和固定的正离子.当P型和N型半导体接触时,在界面附近空穴从P型半导体向N型半导体扩散,电子从N型半导体向P型半导体扩散.空穴和电子相遇而复合,载流子消失.因此在界面附近的结区中有一段距离缺少载流子,却有分布在空间的带电的固定离子,称为空间电荷区.P型半导体一边的空间电荷是负离子,N型半导体一边的空间电荷是正离子.正负离子在界面附近产生电场,这电场阻止载流子进一步扩散,达到平衡.在PN结上外加一电压,如果P型一边接正极,N型一边接负极,电流便从P型一边流向N型一边,空穴和电子都向界面运动,使空间电荷区变窄,电流可以顺利通过.如果N型一边接外加电压的正极,P型一边接负极,则空穴和电子都向远离界面的方向运动,使空间电荷区变宽,电流不能流过.这就是PN结的单向导电性.PN结加反向电压时,空间电荷区变宽,区中电场增强.反向电压增大到一定程度时,反向电流将突然增大.如果外电路不能限制电流,则电流会大到将PN结烧毁.反向电流突然增大时的电压称击穿电压.基本的击穿机构有两种,即隧道击穿（也叫齐纳击穿）和雪崩击穿,前者击穿电压小于6V,有负的温度系数,后者击穿电压大于6V,有正的温度系数.PN结加反向电压时,空间电荷区中的正负电荷构成一个电容性的器件.它的电容量随外加电压改变.根据PN结的材料、掺杂分布、几何结构和偏置条件的不同,利用其基本特性可以制造多种功能的晶体二极管.如利用PN结单向导电性可以制作整流二极管、检波二极管和开关二极管,利用击穿特性制作稳压二极管和雪崩二极管；利用高掺杂PN结隧道效应制作隧道二极管；利用结电容随外电压变化效应制作变容二极管.使半导体的光电效应与PN结相结合还可以制作多种光电器件.如利用前向偏置异质结的载流子注入与复合可以制造半导体激光二极管与半导体发光二极管；利用光辐射对PN结反向电流的调制作用可以制成光电探测器；利用光生伏特效应可制成太阳电池.此外,利用两个PN结之间的相互作用可以产生放大,振荡等多种电子功能.PN结是构成双极型晶体管和场效应晶体管的核心,是现代电子技术的基础.在二级管中广泛应用.PN结的平衡态,是指PN结内的温度均匀、稳定,没有外加电场、外加磁场、光照和辐射等外界因素的作用,宏观上达到稳定的平衡状态. 　　PN结的形成 　　在一块本征半导体的两侧通过扩散不同的杂质,分别形成N型半导体和P型半导体.此时将在N型半导体和P型半导体的结合面上形成如下物理过程:因浓度差↓多子的扩散运动®由杂质离子形成空间电荷区↓空间电荷区形成形成内电场↓↓内电场促使少子漂移内电场阻止多子扩散最后,多子的扩散和少子的漂移达到动态平衡.在P型半导体和N型半导体的结合面两侧,留下离子薄层,这个离子薄层形成的空间电荷区称为PN结.PN结的内电场方向由N区指向P区.在空间电荷区,由于缺少多子,所以也称耗尽层.PN结形成的过程可参阅图01.06.图01.06PN结的形成过程（动画1-3）如打不开点这儿（压缩后的） 　　PN结的单向导电性 　　PN结具有单向导电性,若外加电压使电流从P区流到N区,PN结呈低阻性,所以电流大；反之是高阻性,电流小.如果外加电压使：PN结P区的电位高于N区的电位称为加正向电压,简称正偏；PN结P区的电位低于N区的电位称为加反向电压,简称反偏.(1)PN结加正向电压时的导电情况PN结加正向电压时的导电情况如图01.07所示.外加的正向电压有一部分降落在PN结区,方向与PN结内电场方向相反,削弱了内电场.于是,内电场对多子扩散运动的阻碍减弱,扩散电流加大.扩散电流远大于漂移电流,可忽略漂移电流的影响,PN结呈现低阻性.图01.07PN结加正向电压时的导电情况(动画1-4),如打不开点这儿（压缩后的）(2)PN结加反向电压时的导电情况PN结加反向电压时的导电情况如图01.08所示.外加的反向电压有一部分降落在PN结区,方向与PN结内电场方向相同,加强了内电场.内电场对多子扩散运动的阻碍增强,扩散电流大大减小.此时PN结区的少子在内电场作用下形成的漂移电流大于扩散电流,可忽略扩散电流,PN结呈现高阻性.在一定的温度条件下,由本征激发决定的少子浓度是一定的,故少子形成的漂移电流是恒定的,基本上与所加反向电压的大小无关,这个电流也称为反向饱和电流.PN结加正向电压时,呈现低电阻,具有较大的正向扩散电流；PN结加反向电压时,呈现高电阻,具有很小的反向漂移电流.由此可以得出结论：PN结具有单向导电性.图01.08PN结加反向电压时的导电情况(动画1-5),如打不开点这儿（压缩后的） 　　PN结的电容效应 　　PN结具有一定的电容效应,它由两方面的因素决定.一是势垒电容CB,二是扩散电容CD.(1)势垒电容CB势垒电容是由空间电荷区的离子薄层形成的.当外加电压使PN结上压降发生变化时,离子薄层的厚度也相应地随之改变,这相当PN结中存储的电荷量也随之变化,犹如电容的充放电.势垒电容的示意图见图01.09.图01.09势垒电容示意图(2)扩散电容CD扩散电容是由多子扩散后,在PN结的另一侧面积累而形成的.因PN结正偏时,由N区扩散到P区的电子,与外电源提供的空穴相复合,形成正向电流.刚扩散过来的电子就堆积在P区内紧靠PN结的附近,形成一定的多子浓度梯度分布曲线.反之,由P区扩散到N区的空穴,在N区内也形成类似的浓度梯度分布曲线.扩散电容的示意图如图01.10所示.当外加正向电压不同时,扩散电流即外电路电流的大小也就不同.所以PN结两侧堆积的多子的浓度梯度分布也不同,这就相当电容的充放电过程.势垒电容和扩散电容均是非线性电容. 　　[编辑本段]PN结的击穿特性： 　　当反向电压增大到一定值时,PN结的反向电流将随反向电压的增加而急剧增加,这种现象称为PN结的击穿,反向电流急剧增加时所对应的电压称为反向击穿电压,如上图所示,PN