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英语翻译Fig.7shows3DimagesandsurfaceroughnessoftheSiwaferbyAFMtocomparetheunimplantedwithimplantedsurface.RoughnessofSi-waferbeforeN+ionimplantationisabout6Åwhileitreducedtoabout3Åafterimplantation
问题描述：
英语翻译
Fig.7shows3DimagesandsurfaceroughnessoftheSiwaferbyAFMtocomparetheunimplantedwithimplantedsurface.RoughnessofSi-waferbeforeN+ionimplantationisabout6Åwhileitreducedtoabout3Åafterimplantation.Thelowestsurfaceroughnesswasobtainedonthesampleimplantedwith1×1017Ncm−2dose.ThisresultmeansthatthenitrogenionimplantationbyPSIIcausessurfacemorphologychangetogetherwithimprovementinmechanicalpropertiesoftrivalentchromiumsurface.
PSII：等离子体源离子注入
黄奇回答：
图7显示的是原子力显微镜下硅片在注入氮离子前后的三维立体和表面粗糙维度对比.在氮离子注入前的表面粗糙度是6Å,而在植入后则缩减为3Å.最底层的粗糙度是对样本植入了1×1017N平方厘米的剂量后取得的....
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